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지금까지의 NANO Patterning 기술은 초고가의 장비를 이용하여 반도체 소자를 극소화하는데 집중되어왔습니다.
기가레인은 고품질, 양산성을 확보한 nano patterning 장비를 개발하여 자동화된 임프린트 장비 및 몰드 및 임프린트 레진 기술을 바탕으로 LED, LCD, Bio, 의료기술, 유비쿼터스등에서 지금까지 구현하지 못했던 여러가지 nano application을 적용하는데 도움을 드리고 있습니다.
Wire grid polarizer 제작 시 imprint를 이용한 resist patterning, metal etcher를 통한 metal pattern 구현에 사용됩니다.
고가의 ArF stepper 대신 imprint 공정을 이용함으로써 50nm 급 line and space 패턴을 낮은 비용으로 높은 품질 수준으로 구현 가능합니다.
WGP 패턴에 들어가는 metal 혹은 무기산화물 패턴에 대한 고정밀 etching 공정 능력으로 제품의 고품질화를 구현합니다.
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