为了确保大面积的均匀性，Dual ICP Source可调节Center和Edge的Currant，提供最佳的均匀性。形成高密度的等离子体，提供稳定的再现性和生产性。

应用FRC（Flow ratio Controller）调节混搭工艺气体的Center和Edge之间的比率，有利于确保均匀性。

采用世界首个Face down工程，通过Particle控制效果、延长清洁周期等确保最高生产效率

提供4英寸、6英寸、8英寸的Aluminum、SiC的Batch type TRAY。